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密閉制冷加熱體機-25℃~200℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱體機-25℃~200℃

  • 產品型號:SUNDI-225
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-12-26
  • 訪  問  量:1067
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域化工,生物產業,能源,制藥/生物制藥,電氣

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



密閉制冷加熱體機-25℃~200℃

密閉制冷加熱體機-25℃~200℃

  流體加熱制冷系統溫度控制,流體加熱制冷系統就是我們常說的密閉制冷加熱循環裝置,也叫高低溫一體機,冷熱一體機,與各種類型的玻璃反應釜、雙層反應釜、反應釜、萃取設備等裝置配合,實現制冷和加熱同機運行。

  1、流體加熱制冷系統無論是風冷還是水冷,控溫裝置都應位于有足夠新鮮空氣的運行環境中:周圍空間大于30cm

  2、選擇制冷恒溫循環器的導熱介質時,要注意其溫度上下限、燃點、粘度、冰點等是否符合要求,是否適合儀器內部管道的使用。

  3、流體加熱制冷系統反應釜的冷卻和加熱循環裝置采用合適的儀器,安裝時嚴禁劇烈振動。

  4、流體加熱制冷系統需要經常加熱。測溫儀表應定期檢查和測量,防止測溫節點熱阻大造成溫度不準確和誤操作。

  5、用戶應定制詳細的操作程序和定期維護系統,操作員應非常熟悉和掌握設備的操作。

  6、特別適用于反應過程中加熱和放熱過程的控制。流體加熱制冷系統循環管道的安裝,應便于排出管道內的氣體。如有泄漏,及時停止操作,修理后使用。

  7、加熱制冷恒溫循環器的導熱介質不合適,會對儀器設備產生負面影響,并可能對設備造成損壞。

  8、在規定的壓力范圍內,只能使用制造商規定的導熱介質。

  9、控制流體加熱制冷系統的溫度時,需要快速有效地補償化學反應中的吸熱和放熱,在選擇合適的溫控系統時,需要綜合考慮各種條件和影響因素。



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