【無錫冠亞】半導(dǎo)體晶圓冷卻裝置 硅片循環(huán)水冷卻機(jī) ，冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱，半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵，經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

【無錫冠亞】硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機(jī) ，冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱，半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵，經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

【無錫冠亞】硅片冷卻裝置 單晶硅冷卻冷凍機(jī) 冷水機(jī) ，冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱，半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵，經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

【無錫冠亞】反應(yīng)裝置低溫循環(huán)設(shè)備 數(shù)據(jù)中心chiller ，冠亞制冷設(shè)備制冷溫度范圍從-150度到-5度，可滿足不同制冷溫度需求。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于化工、制藥、生化、新能源、元器件等行業(yè)低溫反應(yīng)領(lǐng)域，制冷速度快，安全可靠。

【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。電子元器件循環(huán)制冷機(jī) 半導(dǎo)體溫控機(jī)

【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。集成電路板循環(huán)制冷機(jī) 水冷散熱模組